二、目前对于搪玻璃设备静电释放有哪些措施 1、评估绝缘溶液或添加粉末，导致电火花的潜在可能； 2、降低搪玻璃反应釜设备的搅拌速度； 3、通过内伸管加入液体，可使其从液面以下加入； 4、混合水或可溶性添加剂以增加溶液导电率 5、在气相空间加入惰性气体（氮气）以防爆炸； 三、搪玻璃设备的静电穿刺 搪玻璃反应釜内搅拌带有悬浮物的液体，悬浮物与搪瓷强烈的磨擦，同时悬浮物自身也产生磨擦，这样就产生大量的静电荷，高的静电荷对搪瓷产生强烈的穿刺作用，从而导致搪瓷点蚀，因此搅拌转速不宜太快。 
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